Das Goethe-Institut China und die Abteilung Kultur und Bildung des Generalkonsulats der Bundesrepublik Deutschland in Shanghai führen auch im Jahr 2017 die Zusammenarbeit mit dem Designinstitut der Chinese Academy of Art fort und bieten ein Residenzprogramm für Künstlerinnen und Künstler aus den Bildenden Künsten an. Der dreimonatige Aufenthalt im September-Dezember 2017 dient der Arbeit an eigenen, chinabezogenen Projekten. Darüber hinaus bietet der Aufenthalt in Shanghai die Möglichkeit, Kontakte mit chinesischen Kunst- und Kulturschaffenden zu knüpfen.

Die Bewerbungsfrist endet am 31. Mai 2017.

Bereich: Kulturschaffende aus den bildenden Künste (Malerei, Installationskunst, Ton/Video, Digital Art, Design der visuellen Kommunikation, Digitale Medienkunst, Architektur und Interior Design, Modedesign, Public Art Design, Kulturmanagement und Kunstmanagement)

Zeitraum: 15. September- 15. Dezember 2017 (Änderung möglich)

Leistungen der Programme

• Finanzierung der An- und Abreisekosten (Flug, Transfer zum und vom Flughafen), Visagebühren für eine einmalige Einreise nach China
• Bereitstellung einer Unterkunft auf dem Campus des Designinstituts in Shanghai für 3 Monate, Verpflegung auf dem Campus, sowie einen Zuschuss zu den Lebenshaltungskosten in Höhe von 500 Euro monatlich
• Vernetzung mit für das Projektvorhaben relevanten Kulturschaffenden und Institutionen über das Netzwerk des Goethe-Instituts und des Designinstituts der Chinese Academy of Art

Während der Residenzzeit soll der/die Stipendiat/Stipendiatin in dem eigenen Fachbereich 2 akademische Vorträge und einen 15-Arbeitstage-Workshop in Absprache mit dem Designinstitut gemeinsam mit dem chinesischen Partner organisieren. Eine Ausstellung, Präsentation oder Performance sowie eine Publikation wird am Ende der Residenzzeit angestrebt.